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Target supply apparatus, extreme ultraviolet light generating apparatus, and target supply method

机译:靶材供给装置,极紫外光产生装置以及靶材供给方法

摘要

A target supply apparatus configured to melt a target and supply a molten target into a chamber, the target generating extreme ultraviolet light when the target is irradiated with a laser beam in the chamber, may include: a pair of electrodes spaced from one another and configured to sandwich the target; and a power source configured to supply a current to a solid target sandwiched between the pair of electrodes via the pair of electrodes to melt the solid target to a core of the solid target.
机译:一种被配置为熔化目标并将熔化的目标供应到腔室中的目标供应装置,当在腔室中用激光束照射目标时,该目标物产生极紫外光,该目标物供应装置可以包括:一对彼此间隔开并配置的电极。将目标夹在中间;电源被配置为经由一对电极向夹在一对电极之间的固体靶材供给电流,以将固体靶材熔融至固体靶材的芯。

著录项

  • 公开/公告号US9860967B2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-01-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GIGAPHOTON INC.;

    申请/专利号US201615210296

  • 发明设计人 HIROKAZU HOSODA;TSUKASA HORI;

    申请日2016-07-14

  • 分类号H05G2;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:54:55

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