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silica microspheres, bonding process and possible uses of silica microspheres

机译:二氧化硅微球,键合工艺和二氧化硅微球的可能用途

摘要

silica microspheres, bonding process and possible uses of silica microspheres. The present invention relates to silica microspheres having an outer diameter 5 of 50 to 125 µm, preferably 60 to 90 µm, a wall thickness greater than 1 to 3 µm. m and a density between 0,3 and 0,7 g / cm ^ 3 ^, process for the injection process of silica microsphere precursors (ms, pr1, pr1 39, pr2 39) in the middle of a plasma (p), bonding processes and possible uses of silica microspheres.
机译:二氧化硅微球,键合工艺以及二氧化硅微球的可能用途。本发明涉及二氧化硅微球,其外径5为50至125μm,优选为60至90μm,壁厚大于1至3μm。 m和密度介于0.3和0.7 g / cm ^ 3 ^之间的过程,用于在等离子体中部(ms,pr1,pr1 <39>,pr2 <39>)注入二氧化硅微球前体p),二氧化硅微球的键合工艺和可能用途。

著录项

  • 公开/公告号NO341714B1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-01-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RAKOTOARISON SYLVAIN;

    申请/专利号NO20070001868

  • 发明设计人 RAKOTOARISON SYLVAIN;

    申请日2007-04-16

  • 分类号C03C11;C01B33/18;C03B19/06;C03B19/10;C04B41/50;E04B1/76;

  • 国家 NO

  • 入库时间 2022-08-21 12:50:47

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