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MONITORING METHOD AND APPARATUS FOR EXCIMER-LASER ANNEALING PROCESS

机译:准分子激光退火过程的监测方法和装置

摘要

A method of evaluating a crystallized silicon layer (12) on a substrate(18) includes injecting light into the substrate (18) in such a way that it is wave-guided by the substrate(18). Wave-guided injected light is diffracted out of the substrate (18) by periodic features of the silicon layer(12). The diffracted light is detected and processed to evaluate the crystalline layer.
机译:一种评估基板(18)上的结晶硅层(12)的方法,包括以使光被基板(18)波导的方式将光注入到基板(18)中。波导注入的光通过硅层(12)的周期性特征从基板(18)衍射出。检测衍射光并进行处理以评估结晶层。

著录项

  • 公开/公告号WO2018078051A1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-05-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 COHERENT LASERSYSTEMS GMBH & CO. KG;

    申请/专利号WO2017EP77514

  • 发明设计人 VAN DER WILT PAUL;

    申请日2017-10-26

  • 分类号G01N21/47;G02B6;B23K26/03;F21V8;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 12:44:21

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