首页> 外国专利> DISPERSION, METHOD FOR PRODUCING CONDUCTIVE PATTERN-EQUIPPED STRUCTURE BY USING DISPERSION, AND CONDUCTIVE PATTERN-EQUIPPED STRUCTURE

DISPERSION, METHOD FOR PRODUCING CONDUCTIVE PATTERN-EQUIPPED STRUCTURE BY USING DISPERSION, AND CONDUCTIVE PATTERN-EQUIPPED STRUCTURE

机译:色散,使用色散生产导电性图案搭载结构的方法以及导电性图案搭载结构

摘要

The present invention forms a conductive pattern which exhibits low resistance on a substrate, and also exhibits high dispersion stability. A dispersion (1) including a copper oxide (2), a dispersion agent (3), and a reducing agent, wherein the reducing agent content falls within the range specified by formula (1), and the dispersion agent content falls within the range specified by formula (2). (1): 0.0001≤(reducing agent mass/copper oxide mass)≤0.10. (2): 0.0050≤(dispersion agent mass/copper oxide mass)≤0.30. Copper sintering is accelerated by promoting the reduction of copper oxide to copper during firing by inclusion of the reducing agent.
机译:本发明形成在基板上表现出低电阻并且还表现出高分散稳定性的导电图案。包含氧化铜(2),分散剂(3)和还原剂的分散体(1),其中还原剂含量在由式(1)指定的范围内,并且分散剂含量在该范围内由公式(2)指定。 (1):0.0001≤(还原剂质量/氧化铜质量)≤0.10。 (2):0.0050≤(分散剂质量/氧化铜质量)≤0.30。通过在焙烧期间通过包含还原剂来促进氧化铜还原成铜,从而加速了铜的烧结。

著录项

  • 公开/公告号WO2018169012A1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-09-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA;

    申请/专利号WO2018JP10287

  • 发明设计人 OHNO EIICHI;YUMOTO TORU;TSURUTA MASANORI;

    申请日2018-03-15

  • 分类号H01B1/22;H01B1;H01B13;H05K1/09;H05K3/12;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 12:42:37

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号