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Global illumination processing method and global illumination processing apparatus performing the same

机译:全局照明处理方法和执行该全局照明处理方法的全局照明处理设备

摘要

The present invention relates to a global illumination processing method based on Ray Tracing and a global illumination processing apparatus for performing the same, the method comprising the steps of: (a) performing ray tracing on a specific pixel from a given light source to generate intaglio light shading; b) determining at least one indirect light source for indirect light shading with respect to the particular pixel; and (c) performing ray tracing on the specific pixel from the at least one indirect light source to generate indirect light shading .
机译:本发明涉及一种基于光线追踪的整体照明处理方法及其执行的整体照明处理设备,该方法包括以下步骤:(a)对来自给定光源的特定像素进行光线追踪以产生凹版印刷浅色阴影b)确定至少一个用于相对于特定像素的间接阴影的间接光源; (c)对来自至少一个间接光源的特定像素进行射线追踪,以产生间接阴影。

著录项

  • 公开/公告号KR20180048902A

    专利类型

  • 公开/公告日2018-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 주식회사 실리콘아츠;

    申请/专利号KR20187009068

  • 发明设计人 정우남;

    申请日2015-08-31

  • 分类号G06T15/06;G06T15/80;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 12:40:10

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