机译:WIPO专利申请WO / 2006/055695涉水层压膜,使用耐磨性层压膜的基板处理体,制造层压板处理体的方法以及使用涉水层压膜的半导体器件的制造方法
公开/公告号KR20180077185A
专利类型
公开/公告日2018-07-06
原文格式PDF
申请/专利权人 도레이 카부시키가이샤;
申请/专利号KR20187013672
申请日2016-10-24
分类号B32B7/12;B32B27/08;B32B27/28;B32B7/06;C09J11/04;C09J179/08;C09J183/04;H01L21/324;H01L21/56;H01L21/78;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 12:39:36