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METAL OXIDE HETEROJUNCTION STRUCTURE METHOD OF MANUFACTURING THE METAL OXIDE HETEROJUNCTION STRUCTURE AND THIN FILM TRANSISTOR HAVING THE METAL OXIDE HETEROJUNCTION STRUCTURE

机译:制造金属氧化物异质结结构的金属氧化物异质结结构方法和具有金属氧化物异质结结构的薄膜晶体管

摘要

A metal oxide heterojunction structure comprising an indium oxide layer and an aluminum oxide layer in contact with the indium oxide layer, Wherein an interfacial layer is provided between the indium oxide layer and the aluminum oxide layer, the interfacial layer including indium ions, aluminum ions and oxygen ions, and providing a charge transport channel.
机译:一种金属氧化物异质结结构,包括氧化铟层和与氧化铟层接触的氧化铝层,其中在氧化铟层和氧化铝层之间设置界面层,该界面层包括铟离子,铝离子和氧离子,并提供电荷传输通道。

著录项

  • 公开/公告号KR101914835B1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 아주대학교산학협력단;

    申请/专利号KR1020160154013

  • 发明设计人 서형탁;이상연;박아영;

    申请日2016-11-18

  • 分类号H01L29/778;H01L29/43;H01L29/786;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 12:36:50

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