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METHOD FOR PRODUCING ETCH RESIST PATTERN ON METALLIC SURFACE

机译:在金属表面上生产抗蚀刻图案的方法

摘要

To provide a method for producing an etch resist pattern on a metallic surface.SOLUTION: A method includes applying a first liquid composition comprising a first reactive component onto a metallic surface to form a primer layer, and applying a second liquid composition comprising a second reactive component on the primer layer by image-wise printing by a nonimpact printing process to produce an etch-resist mask according to a predetermined pattern. When droplets of the second liquid composition contact the primer layer, the second reactive components causes a chemical reaction with the first reactive components so as to immobilize the droplets.SELECTED DRAWING: Figure 1
机译:提供一种用于在金属表面上产生抗蚀剂图案的方法。解决方法:一种方法包括将包含第一反应性组分的第一液体组合物施加到金属表面上以形成底漆层,并施加包含第二反应性的第二液体组合物通过无冲击印刷工艺通过图像方式印刷在底漆层上形成组分,以根据预定图案产生抗蚀剂掩模。当第二种液体组合物的液滴接触底漆层时,第二种反应性组分会与第一种反应性组分发生化学反应,从而固定液滴。

著录项

  • 公开/公告号JP2019134190A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-08-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KATEEVA INC;

    申请/专利号JP20190092613

  • 发明设计人 MOSHE FRENKEL;NAVA SHPAISMAN;

    申请日2019-05-16

  • 分类号H05K3/06;C23F1;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:22:41

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