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Photosensitive resin composition, film adhesive, adhesive sheet, adhesive pattern, semiconductor wafer with adhesive layer, and semiconductor device

机译:光敏树脂组合物,薄膜粘合剂,粘合片,粘合剂图案,具有粘合剂层的半导体晶片和半导体器件

摘要

The present invention provides a photosensitive resin composition comprising: an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group as an end group (A); a radiation-polymerizable compound (B); and a photoinitiator (C), a film adhesive, an adhesive sheet, an adhesive pattern, a semiconductor wafer with an adhesive layer, and a semiconductor device using the photosensitive resin composition.
机译:本发明提供一种光敏树脂组合物,其包含:具有酚羟基作为端基(A)的碱溶性树脂;和可辐射聚合的化合物(B);以及使用该感光性树脂组合物的光聚合引发剂(C),膜状胶粘剂,胶粘片,胶粘剂图案,具有胶粘剂层的半导体晶片以及半导体装置。

著录项

  • 公开/公告号JP6436081B2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-12-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日立化成株式会社;

    申请/专利号JP20150527082

  • 发明设计人 峯岸 知典;満倉 一行;

    申请日2013-07-16

  • 分类号G03F7/037;G03F7/027;G03F7/004;C09J7;C09J201/06;C09J11/02;C09J179/08;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:18:40

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