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INTERFACE ENGINEERING OF A PERPENDICULAR MAGNETIC TUNNEL JUNCTION (PMTJ) STACK TO IMPROVE RETENTION LOSS AT HIGHER TEMPERATURE

机译:垂直磁隧道结(PMTJ)堆栈的界面工程可改善高温下的保持损耗

摘要

A memory device comprises a perpendicular magnetic tunnel junction (PMTJ) stack disposed above a substrate. The PMTJ stack has a first free layer magnet, a reference fixed magnet, and a barrier material between the first free layer magnet and the reference fixed magnet. A material stack is on the PMTJ device, where the material stack comprises a first cap material, a second free layer magnet, and a perpendicular magnetic anisotropy (PMA) booster material to increase PMA of the PMTJ stack.
机译:存储装置包括设置在衬底上方的垂直磁隧道结(PMTJ)堆叠。 PMTJ叠层具有第一自由层磁体,参考固定磁体以及在第一自由层磁体和参考固定磁体之间的阻挡材料。材料叠层位于PMTJ器件上,其中该材料叠层包括第一盖材料,第二自由层磁体和垂直磁各向异性(PMA)增强材料,以增加PMTJ叠层的PMA。

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