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RANDOM COPOLYMER FOR FORMING NEUTRAL LAYER AND LAMINATE FOR FORMING PATTERN COMPRISING THE SAME METHOD FOR PATTERNING USING THE SAME

机译:用于形成中性层的无规共聚物和用于形成图案的层合物包括相同的使用相同方法进行图案化的方法

摘要

The present invention relates to a random copolymer for forming a neutral layer, which is capable of remarkably reducing process time and process costs, a laminate for forming a pattern including the random copolymer, and a method for forming a pattern using the same. The random copolymer for forming a neutral layer comprises a structural unit represented by chemical formulas 1 to 3. In chemical formulas 1 to 3, R_1 to R_8 are each independently hydrogen, halogen, or a C_1 to C_10 hydrocarbyl group, and L_1 and L_2, a linking group, are each independently a direction bond, -C(=O)-O-, a C_1 to C_20 hydrocarbylene group, or a C_1 to C_20 halocarbenylene group.
机译:形成中性层的无规共聚物技术领域本发明涉及一种能够显着减少加工时间和加工成本的用于形成中性层的无规共聚物,用于形成包括该无规共聚物的图案的层压体以及使用该无规共聚物形成图案的方法。用于形成中性层的无规共聚物包含由化学式1至3表示的结构单元。在化学式1至3中,R_1至R_8各自独立地为氢,卤素或C_1至C_10烃基,以及L_1和L_2,连接基团分别独立地是方向键,-C(= O)-O-,C_1至C_20亚烃基或C_1至C_20卤代亚乙烯基。

著录项

  • 公开/公告号KR20190020970A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-03-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SK INNOVATION CO. LTD.;

    申请/专利号KR20170105964

  • 申请日2017-08-22

  • 分类号G03F7/11;C08F212/08;C08F220/18;C08F222/38;G03F7/16;G03F7/26;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:51:29

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