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Photosensitive Composition for Display Device Black Matrix Having the Composition and Process for forming Patterns of Black Matrix Using the Composition

机译:具有该成分的显示装置黑矩阵的光敏组合物以及使用该组合物形成黑矩阵的图案的方法

摘要

The present invention relates to a photosensitive composition for forming a black matrix comprising a photo-base generator which is activated by light to generate a base, and a method for forming a pattern of a black matrix using the same. In the photosensitive composition according to the present invention, the amine generated from the photobase generator by photo-decomposition is distributed on the upper and both sides of the photoresist, thereby preventing the photoresist from being damaged by the developer. Therefore, even if a fine pattern of 6 占 퐉 or less is formed by forming the black matrix pattern using the photosensitive composition of the present invention, uniformity over the entire area One black matrix pattern can be formed.
机译:本发明涉及用于形成黑矩阵的光敏组合物,该光敏组合物包括由光激活的光碱产生剂,以产生碱,以及使用该方法形成黑矩阵的图案的方法。在根据本发明的光敏组合物中,通过光分解从光碱产生剂产生的胺分布在光致抗蚀剂的上部和两侧,从而防止光致抗蚀剂被显影剂破坏。因此,即使通过使用本发明的感光性组合物形成黑底图案而形成6占퐉以下的精细图案,也可以在整个区域上形成均一的黑底图案。

著录项

  • 公开/公告号KR101981579B1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-05-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 엘지디스플레이 주식회사;

    申请/专利号KR20120142882

  • 发明设计人 나윤성;

    申请日2012-12-10

  • 分类号G03F7/004;G02B5/20;G03F7/11;G03F7/26;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:48:32

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