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Device for carrying out a melt layer process and melt layer process

机译:用于执行熔体层工艺的装置和熔体层工艺

摘要

The invention relates to an improvement of conventional devices for carrying out a melt layer method or fused deposition modeling FDM® process and a melt layer method. By means of the present invention, an apparatus and a method for carrying out a melt layer method are disclosed for the first time in which the surface of a first layer is chemically and / or physically modified and / or activated by targeted plasma treatment in such a way that the adhesion of the second layer is improved and both layers show a significantly improved adhesion to one another in the body.
机译:本发明涉及用于执行熔体层方法或熔融沉积建模FDM®工艺和熔体层方法的常规装置的改进。借助于本发明,首次公开了用于进行熔融层方法的设备和方法,其中在这种情况下通过定向等离子体处理对第一层的表面进行化学和/或物理改性和/或活化。一种改善第二层的粘附力并且两层都显示出彼此之间显着改善的粘附力的方式。

著录项

  • 公开/公告号DE102017217383A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-04-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号DE201710217383

  • 发明设计人 FLORIAN EDER;

    申请日2017-09-29

  • 分类号B29C64/118;B33Y10;B33Y30;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 11:45:10

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