首页> 外国专利> TRIARYL AMINE THICK LAYER DOPED WITH METAL AMIDES FOR USE AS HOLE INJECTION LAYER FOR AN ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODE (OLED)

TRIARYL AMINE THICK LAYER DOPED WITH METAL AMIDES FOR USE AS HOLE INJECTION LAYER FOR AN ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODE (OLED)

机译:三元胺厚膜层,掺有金属酰胺,用作有机发光二极管(OLED)的孔注入层

摘要

The present invention relates to a hole injection layer (130) for an OLED comprising a triarylamine compound doped with a charge neutral metal amide compound, characterized in that the hole injection layer has a thickness of at least about ‰¥ 20 nm to about ‰¤ 1000 nm and the charge neutral metal amide compound has the Formula Ia:
机译:本发明涉及一种用于OLED的空穴注入层(130),其包括掺杂有电荷中性金属酰胺化合物的三芳基胺化合物,其特征在于,所述空穴注入层的厚度为至少约≥20nm至约‰。 1000 nm,电荷中性金属酰胺化合物具有式Ia:

著录项

  • 公开/公告号EP3338314B1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-02-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NOVALED GMBH;

    申请/专利号EP20160760402

  • 发明设计人 HUMMERT MARKUS;ROSENOW THOMAS;

    申请日2016-08-18

  • 分类号H01L51/54;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 11:40:54

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