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METHOD FOR DETERMINING ROOT CAUSES OF EVENTS OF A SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS AND FOR MONITORING A SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS

机译:确定半导体制造过程中事件根源的方法以及用于监测半导体制造过程的方法

摘要

Described is a user interface for designing, configuring and/or editing a control flow representing a control strategy associated with a semiconductor manufacturing process. The user interface comprises a library of control elements, each control element being selectable by a user, a control flow editor configured to organize said control elements into a control flow representing the control strategy; and a communication interface for communicating the control flow to a calculation engine configured to evaluate the control flow.
机译:描述了用于设计,配置和/或编辑表示与半导体制造过程相关的控制策略的控制流程的用户界面。用户界面包括控制元素库,每个控制元素可由用户选择;控制流编辑器,被配置为将所述控制元素组织成代表控制策略的控制流;通信接口,用于将控制流传送到配置为评估控制流的计算引擎。

著录项

  • 公开/公告号EP3705959A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-09-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML NETHERLANDS B.V.;

    申请/专利号EP20190160513

  • 发明设计人 CHEN CHANG-WEI;ZENG SI-HAN;

    申请日2019-03-04

  • 分类号G05B19/409;G05B19/418;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 11:38:37

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