首页> 外国专利> PRETREATMENT COMPOSITION FOR ELECTROLESS PLATING, PRETREATMENT METHOD FOR ELECTROLESS PLATING, AND ELECTROLESS PLATING METHOD

PRETREATMENT COMPOSITION FOR ELECTROLESS PLATING, PRETREATMENT METHOD FOR ELECTROLESS PLATING, AND ELECTROLESS PLATING METHOD

机译:化学镀的预处理组合物,化学镀的预处理方法和化学镀的方法

摘要

To provide a pretreatment composition for electroless plating, a pretreatment method for electroless plating, and an electroless plating method that can ensure high plating deposition without using harmful chromate or expensive palladium, and can reduce the number of steps.SOLUTION: A pretreatment composition for electroless plating containing 10 mg/L or more of persulfuric acid ions and 10 mg/L or more of monovalent silver ions is brought into contact with a target surface of a resin material at higher than 60°C, and the target surface of the resin material is further brought into contact with an electroless plating liquid.SELECTED DRAWING: None
机译:为了提供一种用于化学镀的预处理组合物,一种用于化学镀的预处理方法以及一种化学镀方法,可以确保不使用有害的铬酸盐或昂贵的钯而确保高的镀层沉积,并且可以减少步骤数。在高于60℃的温度下,使包含10mg / L以上的过硫酸离子和10mg / L以上的一价银离子的镀层与树脂材料的目标表面接触,并且使树脂材料的目标表面接触。进一步与化学镀液接触。

著录项

  • 公开/公告号JP2019203168A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-11-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OKUNO CHEM IND CO LTD;

    申请/专利号JP20180098434

  • 发明设计人 NISHIO HIROSHI;

    申请日2018-05-23

  • 分类号C23C18/24;C23C18/30;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 11:32:16

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号