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Laser patterning skew correction

机译:激光图案歪斜校正

摘要

A laser patterning alignment method provides a way to position a target at a working distance in a laser patterning system such that fiducial marks on the target are positioned in view of at least three laser patterning system cameras, and with each laser patterning system camera, to locate a fiducial mark on the target and sending location data of the located fiducial mark to a controller, to determine corrections required to align expected fiducial mark locations with the sent fiducial mark location data, and to adjust the laser patterning system with the determined corrections.
机译:激光图案对准方法提供了一种在激光图案形成系统中将目标定位在工作距离处的方法,从而可以在至少三个激光图案形成系统摄像头的情况下定位目标上的基准标记,并且对于每个激光图案形成系统摄像头,在目标上定位基准标记,并将定位的基准标记的位置数据发送到控制器,以确定将预期的基准标记位置与发送的基准标记位置数据对齐所需的校正,并使用确定的校正来调整激光图案形成系统。

著录项

  • 公开/公告号US10618131B2

    专利类型

  • 公开/公告日2020-04-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NLIGHT PHOTONICS CORPORATION;

    申请/专利号US201414296722

  • 发明设计人 VITO P. ERRICO;ROGER C. SHIPMAN;

    申请日2014-06-05

  • 分类号B23K26/04;B23K26/03;B23K26/08;B23K26/082;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:30:59

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