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Flow path member, and heat exchanger and semiconductor manufacturing apparatus using same

机译:流路构件,以及使用该流路构件的热交换器和半导体制造装置

摘要

A flow path member includes a lid portion, a bottom plate portion, and side walls provided between the lid portion and the bottom plate portion, a flow path in which a fluid flows is configured with the lid portion, the side walls, and the bottom plate portion, a portion of a surface of the side walls on the flow path side includes a coarse portion that is coarser than the other portions.
机译:流路部件包括盖部,底板部和设置在该盖部与底板部之间的侧壁,在该盖部,侧壁和底部形成有供流体流过的流路。在板部中,侧壁的流路侧的表面的一部分具有比其他部分更粗的粗部。

著录项

  • 公开/公告号US10627173B2

    专利类型

  • 公开/公告日2020-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KYOCERA CORPORATION;

    申请/专利号US201314402248

  • 申请日2013-05-30

  • 分类号F28F13/12;F24F3/12;F28F13/18;F28F13/14;F28F13/02;H01L21/683;F28D21;H01L21/67;H01J37/32;H01L21/687;F28F3/12;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:29:53

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