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Orthogonal patterning method

机译:正交构图法

摘要

The present invention relates to a method for forming a layer, to be patterned, of an element by using a fluorinated material, which has orthogonality, and a solvent, the method comprising: a first step of printing with the fluorinated material so as to form, on a surface of a substrate, a mask template provided with an exposure part and a non-exposure part; a second step of coating the exposure part with a material to be patterned; a the third step of lifting-off the non-exposure part with the fluorinated solvent so as to form the layer to be patterned in the exposure part.
机译:本发明涉及一种通过使用具有正交性的氟化材料和溶剂形成要被图案化的元件层的方法,该方法包括:第一步,用氟化材料印刷以形成在基板的表面上形成有具有曝光部和非曝光部的掩模模板。第二步骤是用要构图的材料涂覆曝光部分。第三步,用氟化溶剂剥离非曝光部分,以在曝光部分中形成待构图的层。

著录项

  • 公开/公告号US10707079B2

    专利类型

  • 公开/公告日2020-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GWANGJU INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY;

    申请/专利号US201515503970

  • 发明设计人 MYUNG HAN YOON;SU JIN SUNG;

    申请日2015-08-13

  • 分类号H01L21/027;H01L27/12;H01L51;H01L21/02;H01L21/311;H01L51/56;H01L27/32;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:29:15

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