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SYSTEM AND METHOD FOR ENHANCING A DIFFUSION LIMITED CVI/CVD PROCESS

机译:增强扩散限制的CVI / CVD工艺的系统和方法

摘要

A system and method for enhancing a diffusion limited CVI/CVD process is provided. The system may densify a porous structure by flowing a reactant gas around the porous structure. A mass flow controller may be configured to pulse the flow rate of the reactant gas around the porous structure. The mass flow controller may pulse the flow rate from a nominal flow rate to a first flow rate. The mass flow controller may pulse the first flow rate back to the nominal flow rate or to a second flow rate. The mass flow controller may pulse the flow rate between the nominal flow rate, the first flow rate, and the second flow rate, as desired.
机译:提供了一种用于增强扩散受限的CVI / CVD工艺的系统和方法。该系统可以通过使反应气体在多孔结构周围流动来使多孔结构致密。可以将质量流量控制器配置为使反应气体在多孔结构周围的流速脉动。质量流量控制器可以将流量从标称流量脉动到第一流量。质量流量控制器可以将第一流量脉动回到名义流量或第二流量。质量流量控制器可以根据需要在标称流量,第一流量和第二流量之间脉动流量。

著录项

  • 公开/公告号US2020340104A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GOODRICH CORPORATION;

    申请/专利号US202016927843

  • 发明设计人 YING SHE;BRIAN ST. ROCK;

    申请日2020-07-13

  • 分类号C23C16/04;C23C16/26;C23C16/455;C23C16/458;C04B35/83;C23C16/52;F16D65/12;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:23:24

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