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ELECTRO-LESS PRODUCTION OF SILICON NANOWIRES AND PLATES IN A SOLUTION

机译：在溶液中无电生产硅纳米管和板

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摘要

A composition and method for creating silicon nanowires or silicon nano-plates is presented, the composition comprising: Potassium Hydroxide (KOH), at least one catalyst, Sodium Metal Siliconate (Na₂SiO₂), and Ethylenediaminetetraacetic Acid (EDTA), which act as a first chelating agent.

机译：提出了一种用于制造硅纳米线或硅纳米板的组合物和方法，该组合物包括：氢氧化钾（KOH），至少一种催化剂，金属硅酸钠（Na _{2 SiO _{2 < / Sub>）和乙二胺四乙酸（EDTA），它们是第一螯合剂。}}

著录项

公开/公告号US2020317530A1

专利类型
公开/公告日2020-10-08

原文格式PDF
申请/专利权人 GIORA TOPAZ POWDER COATING (2007) LTD.;
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申请/专利号US201716060959
发明设计人 GIORA TOPAZ;
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申请日2017-11-30
分类号C01B33/021;B01J23/50;B01J23/52;B01J23/72;B01J23/86;B01J35/06;B01J35;
国家 US
入库时间 2022-08-21 11:21:12

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