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USING ABSOLUTE Z-HEIGHT VALUES FOR SYNERGY BETWEEN TOOLS

机译:将绝对Z高度值用于工具之间的协同作用

摘要

A semiconductor review tool receives absolute Z-height values for the semiconductor wafer, such as a semiconductor wafer with a beveled edge. The absolute Z-height values can be determined by a semiconductor inspection tool. The semiconductor review tool reviews the semiconductor wafer within a Z-height based on the absolute Z-height values. Focus can be adjusted to within the Z-height.
机译:半导体检查工具接收半导体晶片(例如具有斜边的半导体晶片)的绝对Z高度值。绝对Z高度值可以通过半导体检查工具确定。半导体检查工具基于绝对Z高度值在Z高度内检查半导体晶片。焦点可以调整到Z高度以内。

著录项

  • 公开/公告号US2020321221A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KLA CORPORATION;

    申请/专利号US202016836828

  • 申请日2020-03-31

  • 分类号H01L21/461;H01L21/02;G01B7/31;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:20:25

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