机译:用于全向3D光学测量的工件,用于物体测量的基座,特别是用于物体全向光学测量的旋转基座以及带有用于测量物体的基座的设备,特别是用于旋转物体的全向光学测量的设备目的
公开/公告号PL429397A1
专利类型
公开/公告日2020-10-05
原文格式PDF
申请/专利权人 EVATRONIX SPÓŁKA AKCYJNA;
申请/专利号PL20190429397
发明设计人 WOJCIECH LEGIERSKI;PAWEŁ ŻOCHOWSKI;DAMIAN NYCZ;ŁUKASZ POPIELARCZYK;KAMIL WYROBEK;MATEUSZ HAMERA;ARTUR WSZOŁEK;KAMIL GÓRA;
申请日2019-03-26
分类号G01B11/24;
国家 PL
入库时间 2022-08-21 11:16:28