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2 Structure and Fabrication Method of Photo Detector Device using Two Dimensional Doping Technology

机译:2采用二维掺杂技术的光电探测器的结构和制作方法

摘要

The present invention relates to a light-receiving element using a two-dimensional doping technique and a method for manufacturing the same, and sequentially stacked on a part of the upper portion of the light absorption epi layer located on the upper front surface of the semiconductor substrate and the light absorption epi layer to form a mesa structure. It includes a focusing layer, an acceleration layer, a multiplication layer, a cap layer and an n + -type epi layer, wherein the focusing layer and the multiplication layer is assumed to be two-dimensional doped p-type impurity ions.
机译:本发明涉及一种使用二维掺杂技术的光接收元件及其制造方法,该光接收元件顺序地堆叠在位于半导体的上前表面上的光吸收外延层的上部的一部分上衬底和吸光外延层形成台面结构。它包括聚焦层,加速层,倍增层,盖层和n + 型外延层,其中聚焦层和倍增层被假定为二维掺杂的p。型杂质离子。

著录项

  • 公开/公告号KR102078316B1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-02-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 주식회사 시지트로닉스;

    申请/专利号KR20180025164

  • 发明设计人 조덕호;심규환;최상식;

    申请日2018-03-02

  • 分类号H01L31/107;H01L31/036;H01L31/18;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:05:20

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