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- - method of patterning of quantum dot-polymer composite and substrate INCLUDING the patterned quantum dot-polymer composite

机译:--量子点-聚合物复合材料和衬底的图案化方法,包括图案化的量子点-聚合物复合材料

摘要

A method of patterning a quantum dot-polymer composite and a substrate comprising a patterned quantum dot-polymer composite, wherein the method of patterning a quantum dot-polymer composite comprises the steps of placing a quantum dot-polymer (Quantum dot-polymer) on a substrate and The quantum dot-polymer is placed on the substrate imprinting lithography (imprinting lithography) and UV polymerization is performed, including the step of forming a patterned quantum dot-polymer composite on the substrate, the monomer and the polymer thiol (Thiol) The functionalized monomer and the polymer may be included, and the substrate may include a thiol-functionalized substrate.
机译:构图量子点聚合物复合物的方法和包括构图的量子点聚合物复合物的衬底,其中构图量子点聚合物复合物的方法包括将量子点聚合物(量子点聚合物)放置在其上的步骤。基板上,将量子点聚合物放置在基板上进行压印光刻(压印光刻)并进行UV聚合,包括在基板,单体和聚合物硫醇(硫醇)上形成图案化量子点聚合物复合物的步骤可以包括官能化的单体和聚合物,并且基底可以包括硫醇官能化的基底。

著录项

  • 公开/公告号KR102091622B1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-03-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 삼육대학교산학협력단;

    申请/专利号KR20180120471

  • 发明设计人 박명환;

    申请日2018-10-10

  • 分类号G03F7;G03F7/20;H01L29/12;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:05:02

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