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MATÉRIAU FILMOGÈNE POUR LITHOGRAPHIE, COMPOSITION POUR LA FORMATION D'UN FILM EN LITHOGRAPHIE, FILM DE SOUS-COUCHE POUR LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF

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The present invention provides a film forming material for lithography comprising a compound having a group of the following formula (0):

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公开/公告号EP3627224A4

专利类型
公开/公告日2020.06.03

原文格式PDF
申请/专利权人 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.;
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申请/专利号EP18802656
发明设计人 OKADA, Kana;HORIUCHI, Junya;MAKINOSHIMA, Takashi;ECHIGO, Masatoshi;
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申请日2018.05.14
分类号
国家 EP
入库时间 2022-08-21 10:53:30

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