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光学记录结构中三维特征的改进构造

摘要

所公开的是对具有沿着凹坑轴(64)的引导(54)以及拖尾(52)端的三维特征(50)之横向剖面形状进行改进,其中,所述凹坑轴具有比形成在光学记录结构上的其他的和特殊的坡道(70,175,177)浅一些的槽(75,77)。剖面形状的改进包含坡道(175,177)高度和宽度的降低、双电平数据标记、循迹引导、以及突出于记录结构表面上或突入到记录结构表面内部的平台区域(65a,b,c)。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-12-25

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 7/24 授权公告日:20120711 终止日期:20121031 申请日:20011031

    专利权的终止

  • 2012-07-11

    授权

    授权

  • 2005-04-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-02-16

    公开

    公开

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