首页> 中国专利> 清洁溶液的制造方法和使用该清洁溶液的清洁方法

清洁溶液的制造方法和使用该清洁溶液的清洁方法

摘要

本发明涉及一种清洁方法,即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中,粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水还原碱性清洁溶液由碱性溶液与含氢的水混合制成。这种含水清洁溶液具有有效的清洁能力,其氧化还原电位和pH值可以单独控制。因此,根据在每一制造工序过程中,粘附在物体上的污物的形式,利用含水清洁溶液清洗即可清除多种污物。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-04-26

    专利权有效期届满 IPC(主分类):B08B 3/08 授权公告日:20120606 申请日:19970327

    专利权的终止

  • 2013-04-17

    专利权的转移 IPC(主分类):B08B 3/08 变更前: 变更后: 登记生效日:20130327 申请日:19970327

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-06-06

    授权

    授权

  • 2005-09-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-07-13

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号