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氧化铈浆料、氧化铈抛光浆料以及使用其抛光衬底的方法

摘要

本发明提供了通过使氧化铈粒子的分散性达到最大状态而减小粗大粒子的含有比率,从而同时实现减少抛光损伤以及使抛光速度高速化的氧化铈浆料、氧化铈抛光液以及使用其抛光衬底的方法。本发明是关于含有氧化铈粒子、分散剂和水的氧化铈浆料,其氧化铈重量/分散剂重量比为20~80,本发明还涉及含有上述氧化铈浆料及水溶性高分子等添加剂的氧化铈抛光液。

著录项

  • 公开/公告号CN101291778B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-06-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日立化成工业株式会社;

    申请/专利号CN200680038577.5

  • 发明设计人 榎本和宏;吉川茂;

    申请日2006-10-18

  • 分类号B24B37/00(20120101);C09K3/14(20060101);H01L21/304(20060101);

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人葛松生

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:10:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-20

    授权

    授权

  • 2008-12-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-22

    公开

    公开

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