蚀刻基板的方法、蚀刻基板的处理室和处理室的清洁方法

摘要

自清洁干式蚀刻用的系统、方法与设备一种处理室的清洁方法，其包含将处理室的一内表面加热至一第一温度，第一温度可足以使一第一物质挥发；第一物质可以是沉积于内表面上的数种物质之一。一种清洗化学剂被注入至处理室中。清洗化学剂可以与这些物质中的第二物质反应，以将第二物质转换成第一物质。挥发性第一物质也可从处理室输出。本发明也说明一种处理室的清洁系统。