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用于MEMS领域的可图形化聚合物薄膜的制备方法

摘要

一种用于MEMS领域的可图形化聚合物薄膜的制备方法,包括:在基底和任何已图形化结构上依次溅射粘结层和金属种子层;通过甩光刻胶并光刻图形化,显影处理后留下了图形化的金属种子层;然后以金属种子层为阴极,惰性金属为阳极进行电泳处理,制成柔性聚合物薄膜;初步固化处理后去除光刻胶掩膜层,最后将带有柔性聚合物薄膜的基底再次置于烘箱中进行二次固化处理,得到固化的聚合物薄膜结构。本发明制备的可图形化聚合物薄膜材料一次图形化成型,工艺简单,操作方便,且与衬底或金属的结合力较好,成本低廉,适合批量集成制造。

著录项

  • 公开/公告号CN101693515B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-04-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海交通大学;

    申请/专利号CN200910309152.9

  • 申请日2009-10-30

  • 分类号

  • 代理机构上海交达专利事务所;

  • 代理人王锡麟

  • 地址 200240 上海市闵行区东川路800号

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-12-16

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B81C 1/00 授权公告日:20120425 终止日期:20141030 申请日:20091030

    专利权的终止

  • 2012-04-25

    授权

    授权

  • 2010-05-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):B81C 1/00 申请日:20091030

    实质审查的生效

  • 2010-04-14

    公开

    公开

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