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基于线性轨迹的断层合成系统和方法

摘要

一种数字断层合成系统采集对象(114)的多个投影射线照相并基于所采集的投影射线照相来重建对象的结构。该数字断层合成系统包括X射线源(110)和检测器(116)。X射线源发射X射线束并在相对于检测器的线性迹线中移动。

著录项

  • 公开/公告号CN1575762B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-05-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 通用电气公司;

    申请/专利号CN200410062016.1

  • 申请日2004-06-25

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人王岳

  • 地址 美国纽约州

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-05-23

    授权

    授权

  • 2006-08-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-02-09

    公开

    公开

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