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辐射损伤稳定性显著改善的玻璃及该种玻璃的生产方法和用途

摘要

本发明揭示一种玻璃,其具有较高内部透射性并具有较低的辐射所致物理收缩倾向和较低的曝光过度倾向,其包括:18-31%(重量计)SiO

著录项

  • 公开/公告号CN1636905B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-05-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 史考特公司;

    申请/专利号CN200510000066.1

  • 发明设计人 西尔克·沃尔夫;乌特·韦尔费尔;

    申请日2005-01-06

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王允方

  • 地址 德国美茵茨

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-05-16

    授权

    授权

  • 2007-02-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-07-13

    公开

    公开

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