处理装置、处理方法及等离子源

摘要

本发明涉及处理装置、处理方法及等离子源。提供一种可缩短准备时间而在处理性能上比以往更具可靠性的处理装置及处理方法。具有处理室(1)、设置在处理室内并保持被处理物(2)的保持机构(3)、向处理室内供给活性原子的活性原子供给机构(4)、以及向处理室内供给药液的药液供给机构(5)，对被处理物表面进行通过从活性原子供给机构供给活性原子来进行的干法处理、以及通过从药液供给机构供给的药液来进行的湿法处理。