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能够将有机化合物沉积在衬底上的装置

摘要

提供用于制造具有多个功能区的有机化合物层的一种沉积装置。该沉积装置包括沉积室内的多个蒸发源,能连续形成包括有机化合物的相应的功能区,并且,进一步在功能区的相邻区之间的界面形成混合区.用具有这种制造室的沉积装置,可以防止功能区之间的杂质污染,并且进一步可以在界面形成缩短能隙的有机化合物层。

著录项

  • 公开/公告号CN101397649B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-12-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社半导体能源研究所;

    申请/专利号CN200810213862.7

  • 发明设计人 山崎舜平;濑尾哲史;水上真由美;

    申请日2002-01-31

  • 分类号C23C14/12(20060101);C23C14/56(20060101);H01L51/56(20060101);H01L51/00(20060101);H05B33/10(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人卢江;张志醒

  • 地址 日本神奈川县厚木市

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-12-28

    授权

    授权

  • 2009-05-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-04-01

    公开

    公开

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