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采用光陷阱超小发散角高功率半导体激光器外延材料结构

摘要

一种采用光陷阱超小发散角高功率半导体激光器外延材料结构,包括:一衬底,用于在其上进行激光器各层材料外延生长;一缓冲层,制作在GaAs衬底上;一N型下限制层,制作在缓冲层上;一下渐变光陷阱层,制作在N型下限制层上;一上渐变光陷阱层,制作在下渐变光陷阱层上;一N型上限制层,制作在下渐变光陷阱层上;一N型渐变波导层,制作在N型下限制层上;一量子阱有源区,制作在N型渐变波导层上;一P型渐变波导层,制作在量子阱有源区上;一P型限制层,制作在P型渐变波导层上;一电极接触层,制作在P型限制层上。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-03

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01S 5/00 授权公告日:20110928 终止日期:20120513 申请日:20090513

    专利权的终止

  • 2011-09-28

    授权

    授权

  • 2010-12-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 5/00 申请日:20090513

    实质审查的生效

  • 2010-11-17

    公开

    公开

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