首页> 中国专利> 用于清洁等离子体反应室的组合喷淋头电极的清洁套件和方法

用于清洁等离子体反应室的组合喷淋头电极的清洁套件和方法

摘要

清洁硅电极组件表面的装置,其控制或消除对该电极组件粘合材料可能的化学侵蚀,并避免在酸处理、喷淋清洗、吹干、烘烤、装袋过程中用手接触待处理部件。该装置的方面包括一个套件,该套件包括固定电极组件的电极载台、允许接触该电极组件的处理支架、将该电极组件夹持于该电极载台的星形板、在该电极的酸清洗过程中向该电极组件的背侧供应氮气的氮气吹扫板、将水供应到该电极正表面的水漂洗板、供应氮气以干燥该电极组件的吹干板以及在将干净的电极组件装袋之前的烘烤过程中支撑该电极组件的烘烤支架。

著录项

  • 公开/公告号CN101632158B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 朗姆研究公司;

    申请/专利号CN200880008159.0

  • 发明设计人 杰森·奥古斯蒂诺;查尔斯·瑞星;

    申请日2008-03-12

  • 分类号

  • 代理机构上海胜康律师事务所;

  • 代理人周文强

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-10

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/3065 变更前: 变更后: 申请日:20080312

    著录事项变更

  • 2011-07-20

    授权

    授权

  • 2010-03-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2010-01-20

    公开

    公开

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