法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-02-10
著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/3065 变更前: 变更后: 申请日:20080312
著录事项变更
2011-07-20
授权
授权
2010-03-24
实质审查的生效
实质审查的生效
2010-01-20
公开
公开
机译: 用于清洁四氯化硅或四氯化锗的等离子体反应器,包括反应器外壳,用于等离子体处理的微型单元,金属热交换器,电介质,多孔板,晶格或网络以及高压电极
机译: 通过等离子体致动器快速,温和地清洁反应室的步骤,该反应室用于分离和蚀刻硅基板上的层
机译: 用于清洁汽车发动机室和电机室的环保型绝缘清洁剂组合物,使用该清洁剂的清洁方法和清洁装置