首页> 中国专利> 提高染料掺杂有机薄膜全光开关调制深度的新方法及模型

提高染料掺杂有机薄膜全光开关调制深度的新方法及模型

摘要

本发明涉及一种提高染料掺杂有机薄膜全光开关调制深度的新方法。新方法的主要特点是用两束正交且相位相差180°线偏振光交替激发开关,加快开关的回复过程,从而实现了加快开关速度和提高了开关的调制深度,同时实现了在低激发功率下提高全光开关速度和调制深度的目的。本发明还提供了一种基于上述新方法的新的全光开关模型,即正交线偏振光激发染料掺杂有机薄膜全光开关模型。本发明具有全光开关响应速度明显加快、弱激发光功率和高速开关频率条件下全光开关的调制深度明显提高、正交线偏振光激发全光开关相对现有的全光开关简化了光路和调整方法的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN101526712B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湛江师范学院;

    申请/专利号CN200810030072.5

  • 发明设计人 许棠;陈桂英;

    申请日2008-08-08

  • 分类号G02F1/35(20060101);G02F1/361(20060101);G02B27/28(20060101);

  • 代理机构44228 广州市南锋专利事务所有限公司;

  • 代理人潘献民

  • 地址 524000 广东省湛江市赤坎区寸金路29号

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-09-30

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02F 1/35 授权公告日:20110608 终止日期:20140808 申请日:20080808

    专利权的终止

  • 2011-06-08

    授权

    授权

  • 2009-11-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-09

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号