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通过螺旋位错持续生长形成纳米结构层

摘要

本文描述了薄膜层的纳米结构化支承元件的长度伸展工艺。所述工艺涉及第一退火步骤期间纳米结构化支承元件的初始形成。在所述纳米结构化支承元件上沉积材料涂层。在第二退火步骤期间,所述初始形成的纳米结构化支承元件纵向伸展。较长的纳米结构化支承元件提供了更大的支承催化剂材料的表面积,从而允许在所述层上填塞更多的催化剂。具有延伸的纳米结构化支承元件的层尤其可用于电化学装置(诸如燃料电池),其中催化剂活性与支承所述催化剂的可用表面积相关。

著录项

  • 公开/公告号CN101263621B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 3M创新有限公司;

    申请/专利号CN200680033622.8

  • 申请日2006-09-07

  • 分类号

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人郇春艳

  • 地址 美国明尼苏达州

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01M 4/88 授权公告日:20110525 终止日期:20180907 申请日:20060907

    专利权的终止

  • 2011-05-25

    授权

    授权

  • 2011-05-25

    授权

    授权

  • 2008-10-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-09-10

    公开

    公开

  • 2008-09-10

    公开

    公开

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