法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-02-24
著录事项变更 IPC(主分类):G01N 21/64 变更前: 变更后: 申请日:20090828
著录事项变更
2011-06-22
授权
授权
2010-04-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/64 申请日:20090828
实质审查的生效
2010-02-24
公开
公开
机译: 具有自组装单分子层的光学元件,具有自组装单分子层的光学元件的EUV光刻投影装置,应用自组装单分子层的方法,装置制造方法和装置
机译: 包括具有自组装单分子层的光学元件,具有自组装单分子层的光学元件的EUV光刻投影设备,应用自组装单分子层的方法和器件制造方法
机译: 光学记录控制方法,光学记录控制电路,光学再生控制方法,光学再生控制电路,光学记录介质,跟踪控制方法,跟踪控制电路,光学记录方法,光学记录装置,光学再现装置和光学再现方法