用于过程控制拐点特征修饰的方法和系统

摘要

本发明涉及在工件上生成图案时校正光学邻近和其它效应的过程控制下、修饰拐点特征(内部和外部)的方法和系统。工件包括平板印刷掩模和通过直接写入生成的集成电路。本发明的特定方面在权利要求、说明书和附图中加以描述。