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具有弯曲表面的涂层基底以及例如这种涂层基底的生产方法

摘要

本发明涉及一种在弯曲表面上具有形成图案的光学涂层的基底的生产方法,其中:覆盖弯曲表面子区域的掩模涂敷到弯曲表面,光学涂层使用真空沉积方法来涂敷,以及掩模被去除。可以特别地由该方法产生的涂层基底具有提供有至少一个形成图案的光学涂层的弯曲表面,使得光学涂层提供在该表面的至少一个子区域上而在至少一个相邻子区域上缺少。

著录项

  • 公开/公告号CN1721569B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 肖特股份公司;

    申请/专利号CN200510054431.7

  • 申请日2005-03-10

  • 分类号C23C14/04(20060101);C23C14/24(20060101);C23C14/34(20060101);C23C16/04(20060101);C23C16/513(20060101);B05D1/32(20060101);B05D5/06(20060101);G03F7/20(20060101);G03F7/26(20060101);G02B1/10(20060101);B05D1/02(20060101);B05C5/00(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人秦晨

  • 地址 联邦德国美因茨

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/04 授权公告日:20110615 终止日期:20180310 申请日:20050310

    专利权的终止

  • 2012-07-04

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C14/04 变更前: 变更后: 登记生效日:20120529 申请日:20050310

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-07-04

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/04 变更前: 变更后: 登记生效日:20120529 申请日:20050310

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-06-15

    授权

    授权

  • 2011-06-15

    授权

    授权

  • 2006-03-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-03-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-01-18

    公开

    公开

  • 2006-01-18

    公开

    公开

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