首页> 中国专利> 氢还原制备密排六方结构或面心立方结构超细钴粉的方法

氢还原制备密排六方结构或面心立方结构超细钴粉的方法

摘要

本发明公开了一种氢还原制备密排六方结构或面心立方结构超细钴粉的工艺方法,属于金属粉末材料制备技术领域。该工艺包括如下步骤:采用钴的水溶性盐为原料,加入过量碱获得钴的氢氧化物沉淀,不经过滤直接转入高压釜中,在少量氯化钯催化作用下,低于180℃,弱氢气气氛(<1MPa)还原,还原产物经过滤、洗涤、干燥后在氢还原炉中二次固相氢还原,然后在惰性气体保护下粉碎,结果制得了粒度小于0.5μm,比表面积大,分布均匀,具有单一密排六方结构或面心立方结构的超细钴粉。

著录项

  • 公开/公告号CN101653830B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-06-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆明贵金属研究所;

    申请/专利号CN200910094837.6

  • 申请日2009-11-09

  • 分类号

  • 代理机构昆明今威专利代理有限公司;

  • 代理人赛晓刚

  • 地址 650106 云南省昆明市高新技术开发区科技路988号昆明贵金属研究所

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-01-02

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B22F 9/26 授权公告日:20110601 终止日期:20111109 申请日:20091109

    专利权的终止

  • 2011-06-01

    授权

    授权

  • 2010-04-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):B22F 9/26 申请日:20091109

    实质审查的生效

  • 2010-02-24

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号