首页> 中国专利> 二氧化硅颗粒的纯化方法和纯化设备以及纯化二氧化硅颗粒

二氧化硅颗粒的纯化方法和纯化设备以及纯化二氧化硅颗粒

摘要

本发明提供二氧化硅颗粒的纯化方法,该纯化方法是使二氧化硅颗粒形成流动状态、在高温下使纯化用气体与流动状态的二氧化硅颗粒接触,除去二氧化硅颗粒的杂质成分的纯化方法,其中,使流动状态的二氧化硅颗粒位于磁场区域内,优选使流动状态的二氧化硅颗粒位于10高斯以上的磁场区域内,在1000℃以上的温度下与纯化用气体接触,由此可以在比以往的气体纯化方法的平均处理温度低的1000℃~1300℃的温度下获得高的纯化效果。

著录项

  • 公开/公告号CN101296864B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本超精石英株式会社;

    申请/专利号CN200680040256.9

  • 发明设计人 神田稔;辻义行;

    申请日2006-10-25

  • 分类号C03B20/00(20060101);C01B33/18(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人吴娟;李平英

  • 地址 日本秋田县

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-29

    专利权的转移 IPC(主分类):C03B 20/00 登记生效日:20190109 变更前: 变更后: 申请日:20061025

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-09-14

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C03B20/00 变更前: 变更后: 申请日:20061025

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2011-09-14

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C03B 20/00 变更前: 变更后: 申请日:20061025

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2011-05-25

    授权

    授权

  • 2011-05-25

    授权

    授权

  • 2008-12-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-12-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-29

    公开

    公开

  • 2008-10-29

    公开

    公开

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