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作为用于CVD前体的低杂质有机硅产品

摘要

本发明提供一种有机硅组合物,其包含二乙氧基甲基硅烷,一定浓度的溶解的残留氯化物,和一定浓度的溶解的残留氯化物清除剂,当将其与另一种含有二乙氧基甲基硅烷组合物混合时,不产生不需要的氯化物盐沉淀。

著录项

  • 公开/公告号CN101092689B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 气体产品与化学公司;

    申请/专利号CN200710138000.8

  • 申请日2007-06-13

  • 分类号C07F7/08(20060101);C23C16/40(20060101);H01L21/316(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人刘锴;范赤

  • 地址 美国宾夕法尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-18

    专利权的转移 IPC(主分类):C07F 7/08 登记生效日:20170629 变更前: 变更后: 申请日:20070613

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-03-30

    授权

    授权

  • 2011-03-30

    授权

    授权

  • 2008-02-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-02-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-12-26

    公开

    公开

  • 2007-12-26

    公开

    公开

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