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一种在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法

摘要

本发明公开了一种在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法,系在镀膜基板上利用旋涂光刻胶或粘贴胶带的方法设置凸起的台阶,台阶的高度为5-500μm,形成闭合的边框,在边框围成的区域内滴加溶液利用旋涂法制备薄膜。采用该方法可以大幅度地提高每次旋涂薄膜的厚度,适用于需要制备厚膜的诸多领域,可减少重复旋涂的次数。本方法工艺简单,操作性强,具有较强的应用价值。

著录项

  • 公开/公告号CN101324756B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN200810045514.3

  • 发明设计人 杜晓松;蒋亚东;胡佳;

    申请日2008-07-10

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610054 四川省成都市建设北路二段四号

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-09-02

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/16 授权公告日:20110406 终止日期:20140710 申请日:20080710

    专利权的终止

  • 2011-04-06

    授权

    授权

  • 2009-02-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-12-17

    公开

    公开

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