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用于高精度机器视觉测量的测量被遮蔽特征的方法

摘要

一种在机器视觉测量中测量被遮蔽特征的方法。所述方法允许对被无关对象(例如平板显示屏掩模的覆盖栅格)部分遮蔽的高精度测量。该方法首先粗略定位待测特征的边缘点。在一个实施例中,通过使用形态滤波器删除无关对象(例如遮蔽栅格),然后在滤波后的图像上进行边缘检测,粗略边缘定位操作被执行。一旦粗略边缘位置被确定,则该方法回到原始的未经改变的图像,并且对于每个粗略定位的边缘点,在原始的未经改变的图像中的该点的近邻中进行边缘检查。然后这些细化后的边缘点位置被用于拟合高度精密的测量特征。

著录项

  • 公开/公告号CN1904545B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社米姿托约;

    申请/专利号CN200510087674.0

  • 发明设计人 安娜·泰萨多;

    申请日2005-07-29

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人马浩

  • 地址 日本神奈川

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-04-13

    授权

    授权

  • 2007-08-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-01-31

    公开

    公开

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