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一种密闭中熔融态物料形态的层析图像测量方法

摘要

本发明公开了一种密闭中熔融态物料形态的层析图像测量方法,该方法通过使用包括成型空间层析图像获取、目标层析图像提取和预处理、目标层析特征图像提取、目标层析特征形态识别和测量的步骤来获取、识别和测量处于密闭中的熔融态物料形态。本发明与国内外现有技术相比,不仅解决了非破坏性地获取处于高压、中温的封闭空间中熔融态聚合物形态的问题,而且解决了在计算机层析图像测量中,由于物料几何尺寸小、成型设备几何结构大,物料密度与成型设备材料密度差别大所引发的物料的图像像素少,图像灰阶动态范围小,致使物料层析特征形态难以识别和测量的问题,从而为研究聚合物(或相似材料)成型机理提供了一种技术方法。

著录项

  • 公开/公告号CN101008623B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-03-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南理工大学;

    申请/专利号CN200710026437.2

  • 发明设计人 李礼夫;

    申请日2007-01-19

  • 分类号

  • 代理机构广州粤高专利商标代理有限公司;

  • 代理人何淑珍

  • 地址 510640 广东省广州市天河区五山路381号

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-03-18

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N 23/04 授权公告日:20110316 终止日期:20140119 申请日:20070119

    专利权的终止

  • 2011-03-16

    授权

    授权

  • 2007-09-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-01

    公开

    公开

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