法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-01-11
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B28B 1/14 授权公告日:20101110 终止日期:20151119 申请日:20081119
专利权的终止
2010-11-10
授权
授权
2009-07-15
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-05-20
公开
公开
机译: 用于清洗模具的基体的机器以及行式铸造机,其中通过环形链条的方式分别将母模移到母模的收集通道中,并通过清洗装置引导其通过-
机译: 一种用于光学记录介质的母板的制备方法,一种用于光学记录介质和抗蚀剂的图案,母板,母模的制备方法
机译: 一种涂覆基材的方法,其中将熔化成弧形并成层的线状喷涂材料沉积在该基材上,以及对用于电弧喷涂的喷涂材料和电弧喷涂层进行喷涂