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涂层-基体界面激光预处理质量的无损检测方法

摘要

本发明公开了一种涂层-基体界面激光预处理质量的无损检测方法,其具体步骤为:用激光束对基体表面进行微熔处理,建立指定激光工艺条件下的基体表面微熔状态的标准图谱以及基体表面微熔区宽度与激光硬化区深度之关系,不同工件激光处理效果及其一致性通过与标准图谱的实时对比加以控制,基体最大激光硬化深度则通过测定表面微熔区宽度并根据其与激光硬化区深度的关系予以确定。本发明涂层基体界面激光预处理质量无损检测方法,可以通过对表面激光预处理状态的控制和测量及其与标准图谱的对比,直接评价基体激光预处理效果和质量,无需破坏工件对激光处理区域进行解剖和制作金相试样。

著录项

  • 公开/公告号CN101403685B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院力学研究所;

    申请/专利号CN200810226408.5

  • 发明设计人 陈光南;吴臣武;张坤;罗耕星;

    申请日2008-11-10

  • 分类号G01N21/00(20060101);G01B11/22(20060101);

  • 代理机构11003 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人尹振启

  • 地址 100190 北京市海淀区北四环西路15号

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-01-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N 21/00 授权公告日:20101027 终止日期:20151110 申请日:20081110

    专利权的终止

  • 2010-10-27

    授权

    授权

  • 2009-06-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-04-08

    公开

    公开

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